Si異方性エッチングは、Siの結晶軸方位を利用してハーフ穴及び貫通穴を施す技法です。例えば、Siウエハー(#100)型を異方性エッチングした場合、結晶軸方向の54.7度の角度にて、シャープで高精度なパターン加工が可能です。
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